172nm光刻及相關半導體加工工藝(Lithography Related)
獨特的172納米波長，新型平面微腔陣列光源技術兼具高功率，以及超乎尋常的均勻性和多功能性，高效能且緊湊的模塊化設計，這些革命性的實現都由引入π2-CYGNI系列真空紫外光處理系統開始。不堵的勻膠機，不易堵、好清洗，采用四重防堵技術省去使用中頻繁拆洗和清理困①電機內置廢液罐，確保電機壽命②可拆卸式勻膠機腔體，便于清洗③外置集液罐和排液管④樣品夾具采用分離式防堵設計。
